F3-CS：Filmetrics的F3-CS专门为了微小视野及微小样品测量设计,任何人从已线操作到研&发人员都可以此簡易USB供电系统在數秒钟内测量如聚对二甲苯和真空镀膜层厚度.我们具專利的自動校正功能大幅缩短测量设置並可自动调节仪器的灵敏度,使用免手持测量模式時,只需简单地將样品面朝下放置在平台上测量样品,此時该系统已具備可测量数百种膜层所必要的一切设置不管膜层是否在透明或不透明基底上.快速厚度测量可选配FILMeasure厚度测量软件使厚度测量就像在平台上放置你的样品一樣容易,软件內建所有常见的电介质和半导体层（包括C，N和HT型聚对二甲苯）的光学常数(n和k）,厚度结果會及時的以直覺的测量结果显示对于進階使用者，可以進一步以F3-CS测量折射率,F3-CS可在任何运行WindowsXP到Windows864位作業系統的计算机上运行,USB电缆則提供电源和通信功能.采用Michaelson干涉方法，红外波段的激光能更好的穿透被测物体，准确得到测试结果。透明导电氧化物膜厚仪优惠价格

F50系列包含的内容：集成光谱仪/光源装置光纤电缆4",6"and200mm参考晶圆TS-SiO2-4-7200厚度标准BK7参考材料整平滤波器(用于高反射基板)真空泵备用灯型号厚度范围*波长范围F50：20nm-70µm380-1050nmF50-UV：5nm-40µm190-1100nmF50-NIR：100nm-250µm950-1700nmF50-EXR：20nm-250µm380-1700nmF50-UVX：5nm-250µm190-1700nmF50-XT：0.2µm-450µm1440-1690nmF50-s980：4µm-1mm960-1000nmF50-s1310：7µm-2mm1280-1340nmF50-s1550：10µm-3mm1520-1580nm额外的好处：每台系统內建超过130种材料库,随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一-周五）网上的“手把手”支持(需要连接互联网)硬件升级计划透明导电氧化物膜厚仪优惠价格F10-AR在用户定义的任何波长范围内都能进行蕞低、蕞高和平均反射测试。

F50和F60的晶圆平台提供不同尺寸晶圆平台。F50晶圆平台-100mm用于2"、3"和4"晶圆的F50平台组件。F50晶圆平台-200mm用于4"、5"、6"和200mm晶圆的F50平台组件。F50晶圆平台-300mm用于4"、5"、6"、200mm和300mm晶圆的F50平台组件。F50晶圆平台-450mmF50夹盘组件实用于4",5",6",200mm,300mm,以及450mm毫米晶片。F50晶圆平台-订制预订F50的晶圆平台，通常在四星期内交货。F60晶圆平台-200mm用于4"、5"、6"和200mm晶圆的F60平台组件。F60晶圆平台-300mm用于4"、5"、6"、200mm和300mm晶圆的F60平台组件。

TotalThicknessVariation(TTV)应用规格:测量方式:红外干涉(非接触式)样本尺寸:50、75、100、200、300mm，也可以订做客户需要的产品尺寸测量厚度:15—780μm(单探头)3mm(双探头总厚度测量)扫瞄方式:半自动及全自动型号,另2D/3D扫瞄(Mapping)可选衬底厚度测量:TTV、平均值、*小值、*大值、公差...可选粗糙度:20—1000Å(RMS)重复性:0.1μm(1sigma)单探头*0.8μm(1sigma)双探头*分辨率:10nm请访问我们的中文官网了解更多关于本产品的信息。F3-s980 是波长为980奈米的版本，是为了针对成本敏锐的应用而设计。

电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 – 蕞简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)， 而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。 受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。 更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。 但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!F20-XT膜厚范围：0.2µm - 450µm；波长：1440-1690nm。官方授权分销膜厚仪科研应用

适用于所有可让红外线通过的材料 硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物等。透明导电氧化物膜厚仪优惠价格

是专业制造半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪公司,目前仪器仪表行业内有较大成绩的制造商，在国内有多家贸易和贸易型代理商。在半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪行业内闻名，如今还提供磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 等领域内的业务。仪器仪表目前国内很多高阶产品仍主要依赖于进口，就进来的新品来看，国外产品多为高精尖产品，国内虽然也有新技术和新产品的出现，但是主要仍出现在温湿度等低端产品。所以替代进口空间大，前景广阔。其次，我国的新型工业化进程，带动了各个工业领域对自动化的需求，从而也带来了仪器仪表产业的繁荣。我国对于各大行业落实节能减排指标、关停落后产能等一系列强制性措施都在一定程度上扩大了仪器仪表行业的市场规模。经济的快速发展推动了我国仪器仪表市场的持续增长，很多第三方检测机构都面临着实验室扩增、新建实验室和老旧仪器淘汰问题。通过灵活应对现金流的问题，做到平衡资金和发展以取得更高的企业竞争优势。透明导电氧化物膜厚仪优惠价格

岱美仪器技术服务（上海）有限公司坐落于金高路2216弄35号6幢306-308室，是集设计、开发、生产、销售、售后服务于一体，仪器仪表的贸易型企业。公司在行业内发展多年，持续为用户提供整套半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪的解决方案。公司具有半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪等多种产品，根据客户不同的需求，提供不同类型的产品。公司拥有一批热情敬业、经验丰富的服务团队，为客户提供服务。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi集中了一批经验丰富的技术及管理专业人才，能为客户提供良好的售前、售中及售后服务，并能根据用户需求，定制产品和配套整体解决方案。岱美仪器技术服务（上海）有限公司以先进工艺为基础、以产品质量为根本、以技术创新为动力，开发并推出多项具有竞争力的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪产品，确保了在半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪市场的优势。